Корейский институт передовых технологий (KAIST) обвиняет Samsung в незаконном использовании защищённых технологий при производстве микрочипов.
Речь идёт о методике FinFET, которая предусматривает использование транзисторов с передовой 3D-структурой. По заявлениям стороны обвинения, эта технология изначально была разработана специалистами KAIST в партнёрстве с профессором Ли Чен-Хо (Lee Jong-ho) из Сеульского университета.
Утверждается, что впоследствии компания Samsung пригласила господина Чен-Хо для проведения презентации на тему FinFET. Это якобы позволило инженерам южнокорейского гиганта в сжатые сроки и при меньших затратах внедрить названную методику на своих предприятиях.
В KAIST заявляют, что Samsung использует защищённую технологию без разрешения и выплаты отчислений. На этом основании истцы намерены требовать от ответчиков выплаты компенсации.
Более того, под удар попала компания Global Foundries, использующая технологию на условиях лицензионного соглашения с Samsung. Разбирательство также грозит Qualcomm, которая пользуется услугами и Samsung, и Global Foundries. Наконец, говорится о возможности подачи иска против TSMC.
Источник: 3dnews.ru
